Radiofrekvensmagnetronförstoftning, även kallad RF-magnetronförstoftning, är en process som används för att göra tunn film, speciellt när man använder material som är icke-ledande. I denna process odlas en tunn film på ett substrat som placeras i en vakuumkammare. Kraftfulla magneter används för att jonisera målmaterialet och uppmuntra det att lägga sig på substratet i form av en tunn film.
Det första steget i RF-magnetronförstoftningsprocessen är att placera ett substratmaterial i en vakuumkammare. Luften avlägsnas sedan och målmaterialet, materialet som kommer att utgöra den tunna filmen, släpps ut i kammaren i form av en gas. Partiklar av detta material joniseras genom användning av kraftfulla magneter. Nu i form av plasma, det negativt laddade målmaterialet radas upp på substratet för att bilda en tunn film. Tunna filmer kan variera i tjocklek från några till några hundra atomer eller molekyler.
Magneterna hjälper till att påskynda tillväxten av den tunna filmen eftersom magnetisering av atomerna hjälper till att öka andelen målmaterial som blir joniserat. Joniserade atomer är mer benägna att interagera med de andra partiklarna som är involverade i tunnfilmsprocessen och är därför mer benägna att sedimentera på substratet. Detta ökar effektiviteten i tunnfilmsprocessen, vilket gör att de växer snabbare och vid lägre tryck.
RF-magnetronförstoftningsprocessen är särskilt användbar för att göra tunna filmer av material som inte är ledande. Dessa material kan ha svårare att formas till en tunn film eftersom de blir positivt laddade utan användning av magnetism. Atomer med en positiv laddning kommer att sakta ner förstoftningsprocessen och kan ”förgifta” andra partiklar av målmaterialet, vilket ytterligare saktar ner processen.
Magnetronförstoftning kan användas med ledande eller icke-ledande material, medan en relaterad process, kallad diod (DC) magnetronförstoftning, endast fungerar med ledande material. DC-magnetronförstoftning görs ofta vid högre tryck, vilket kan vara svårt att upprätthålla. De lägre trycken som används vid RF-magnetronförstoftning är möjliga på grund av den höga andelen joniserade partiklar i vakuumkammaren.