Evaporator film tipis adalah mesin yang digunakan untuk membuat film tipis. Dengan menguapkan atau menyublimkan berbagai elemen, evaporator film tipis dapat menyimpan lapisan atom atau molekul yang sangat tipis ke bahan substrat. Mesin ini terdiri dari ruang vakum, elemen pemanas, dan peralatan yang menahan dan memindahkan substrat sementara lapisan tipis disimpan di atasnya.
Ada dua jenis utama penguapan yang dapat digunakan untuk membuat film tipis. Ini adalah penguapan resistif dan penguapan berkas elektron. Dalam kedua teknik ini, bahan target dipanaskan dalam evaporator film tipis sampai menguap atau menyublim. Sebagai gas, bahan target bergerak melalui ruang vakum sampai mendarat di substrat dan membentuk film tipis. Kedua teknik ini mengharuskan bahan target stabil seperti gas.
Dalam penguapan resistif, arus listrik dilewatkan melalui bahan target, yang menjadi panas saat diberi energi. Dengan panas yang cukup, bahan target menguap atau menyublim. Emas dan aluminium adalah bahan target umum yang dapat diuapkan dalam bentuk kawat logam, yang disebut filamen. Material target berupa filamen sulit untuk dimuat ke dalam evaporator dan hanya dapat dikerjakan dalam jumlah kecil. Evaporator film tipis juga dapat menggunakan lembaran tipis bahan target, yang seringkali lebih mudah dikerjakan dan menghasilkan lebih banyak materi saat diuapkan.
Beberapa bahan target tidak cocok untuk evaporasi resistif karena mereka dapat melepaskan sebagian besar materi padat selama proses tersebut. Jika padatan ini bertabrakan dengan film tipis yang terbentuk pada substrat, mereka dapat merusaknya. Menguapkan bahan-bahan ini memerlukan penggunaan sumber pemanas tertutup yang memungkinkan bahan berbentuk gas keluar melalui lubang-lubang kecil sambil menjebak bagian-bagian materi padat di dalam ruang pemanas.
Penguapan berkas elektron memanaskan bahan target dengan mengarahkan berkas elektron energi tinggi padanya. Dalam jenis evaporator film tipis ini, bahan target disimpan di perapian yang didinginkan saat dibombardir dengan elektron dan dipanaskan. Proses ini berguna untuk bahan target dengan suhu penguapan yang sangat tinggi karena sinar energi yang terfokus dapat memanaskan bahan target tanpa memanaskan seluruh peralatan. Wadah yang menampung bahan target tidak terkena panas yang ekstrem, sehingga tidak meleleh atau menguap selama proses berlangsung. Jenis penguapan film tipis ini membutuhkan peralatan khusus dan bisa sangat mahal.